アップルの最高デザイン責任者、ジョナサン・アイブ氏は、火曜日に発行された日本のデザイン雑誌「カーサ・ブルータス」との短いインタビューで、同社は次期フラッグシップモデル「iPhone X」の開発に2年以上を費やしたと語った。
AppleInsiderが最初に発見したこのインタビューでは、Appleの新しい深度ベースの顔認識システムであるFace IDやTrueDepthカメラなどの高度な機能により、iPhone Xは同社が手がけた最も困難なプロジェクトの1つになったことが明らかになった。
iPhone XはiPhoneの豊かな歴史における新たな章を象徴するとアイブ氏は述べた。iPhoneの10周年にOLEDデバイスがデビューしたことは「素晴らしい偶然」だと付け加えた。
アイブ氏はさらに、Face IDは物理的なやりとりを必要としないユーザーインターフェースに向けた長年の取り組みの集大成であり、このシステムはTouch IDと比べて向上したユーザーエクスペリエンスを可能にすると説明した。
デザイナーは、iPhone Xの一体型筐体とディスプレイの完成にすでに取り組んでいることを示唆した。これは明らかに、今後Appleのデフォルトの端末デザインとなるだろう。
